內地工信部近日宣布，研發出首臺國產深紫外光曝光機（DUV），可生產8納米及以下芯片，目前正在推廣應用。
工業和信息化部官網9日公布“首臺（套）重大技術裝備推廣應用指導目錄（2024年版）”的通知，下發地方要求加強產業、財政、金融、科技等國家支持政策的協同。
工信部稱，重大技術裝備是國之重器，事關綜合國力和國家安全。“中國首臺（套）重大技術裝備”是指國內實現重大技術突破、擁有智慧財產權、尚未取得明顯市場業績的裝備產品，包括整機設備、核心系統和關鍵零部件等。
這份目錄顯示，在集成電路生產裝備，其中一項是“氟化氬光刻機”（DUV曝光機），核心技術指標是“晶圓直徑300mm，照明波長248nm，分辨率≦65nm，套刻≦8nm”。這也代表，這臺國產DUV可生產8納米及以下芯片。至于國產DUV曝光機的良率則未見提及。
據內地科技自媒體今天轉發消息后稱，中國自己的DUV曝光機終于來了，雖然與荷蘭ASML曝光機存在代差，至少己填補空白，可控可用，期待之后能研發出更先進的極紫外光曝光機（EUV）。
美國5日才宣布收緊制造先進半導體設備所需機器的出口管制，荷蘭政府隔天跟進，宣布擴大限制半導體制造設備出口。
中國若實現國產8納米及以下制程DUV，未來絕大多數芯片制造，將不用受制于ASML。不過，截至目前，尚無中國官方與廠商宣布這項消息。
